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    三氟化氮项目建成生产

    2016-7-21 17:54:35

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    日前,黎明化工研究设计院有限责任公司与韩国大成产业气体株式会社合资建设的1000吨/年三氟化氮(NF3)项目,全面建成并达到设计能力,再加上原有200吨/年的中试装置,黎明院成为中国第二大三氟化氮生产商。更多资讯关注谱源气体,或者请拨打我们的热线电话:13711176807
     该项目位于洛阳市吉利区石化产业集聚区,列入河南省和洛阳市重点工程。项目实际总投资2.6亿元,占地3.58万平方米,新建三氟化氮粗品电解车间、自动化连续充装洁净车间以及相关辅助设施。
     据 了解,该项目是国内第一家中外合资三氟化氮项目,采用黎明院自主研发的处于国际先进水平的新型电解技术生产三氟化氮,与化学法相比具有工艺连续性良好、生 产成本易于控制、产品质量稳定、安全可靠、杂质少等显著优点,其产品指标达到国际先进水平。在此基础上,引进韩国投资方先进的电子气体充装系统和检测设 备,在先进的生产工艺上实现了强强联合。
     业内人士认为,该项目是国内加大关键电子气体研发和产业化力度,并达到国产化和规模化的重要成果,满足国内外相关领域的发展需求,对保障国家经济安全和增强综合国力具有重大战略意义。
     目前,该项目已满负荷生产,已和京东方、华星光电、熊猫电子、LG、三星、汉能、美国TI、台湾华亚科、台湾群创等知名半导体和液晶面板生产商达成合作意向,并已成功通过测试、验厂和批量供货,获得客户的赞誉。 
     黎 明院是从事氟化物研发的重点单位,早在1996年便开始三氟化氮工艺技术的研究,研发的三氟化氮技术与产品处于国际先进水平,韩国大成气体株式会社是一家 位于韩国的综合气体供应商,主要客户为LG、三星、现代等韩资企业,拥有成熟完善的分销网络。双方通过这一项目实现了技术与市场的强强联合,加快推进黎明 院从含氟工业气体生产向含氟电子特种气体转型升级的战略目标,将成为黎明院未来五年的产业支柱。
    谱源气体作为专业气体厂家,三氟化氮也是主营气体,相关三氟化氮产品技术:
    分子式:NF3。
    基本性质:气 体分子量:71.01,熔点:–206.8℃(1atm),沸点:–129℃(1atm),临界温度:–39.3℃,临界压 力:44.02atm(4.46MPa),液体密度:1554 kg/m3(1atm,沸点时),气体密度:2.95 kg/m3(1atm,21℃),水中溶解度(1atm,22℃):1.43×10-5当量浓度。纯净的NF3气体是一种无色无味的气体,当混入一定量的 杂质气体后颜色发黄,同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃,但能助燃。当温度超过350℃时,三氟化氮气体会缓慢分解,分解时产生强氧化性氟,因 此,在高温下它是一种强氧化剂。
    CAS No.:7783-54-2。
    UN UN.:2451
    危险性类别:第2.3类有毒气体,在空气中的最高允许含量为29mg/m3。
    产品纯度: 99.99%~99.995%
    产品包装:47L专用钢瓶,22kg/瓶;40L专用钢瓶,20kg/瓶;8L专用钢瓶,3.4kg/瓶;钢瓶标准:DOT-3AA, GB5099;阀门:CGA330、CGA640
    产品用途:三 氟化氮是用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等 离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于 1.5um的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的 发展和电子工业大规模的发展技术,它的需求量将日益增加。
    注意事项:如遇有NF3气体泄露,工作人员要马上 撤离泄漏污染区,并尽可能采取措施阻止NF3气体的进一步泄露。如有工作人员中毒,应立即送往医院救治。泄露现场要尽快处理,处理泄露现场的工作人员必须 配戴必要的防毒面具,最好是自给正压式呼吸器。泄露现场经检测无危害气体后方可进入工作人员,泄露容器必须经仔细检查、维修或妥善处理好后方可继续使用。 NF3气瓶应储存于阴凉、通风仓库内,仓库温度不宜超过30℃。NF3气瓶应远离火种、热源、防止阳光直射,与还原剂、易燃或可燃物等分开存放。NF3气 瓶在搬运时要轻装、轻卸,防止钢瓶及附件破损。NF3气瓶的运输按危险品运输。运输时用气瓶固定架将NF3气瓶固定好,用汽车公路运输或用轮船集装箱运 输。

     
     
     
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