热门下载
联系粤佳
广州市谱源气体有限公司
详解电子气体的主要用途
2018-5-2 15:10:47
随着我国高新技术的快速发展，计算机工业对大规模集成电路、液晶显示器的需求大量增加；随着新型能源的发展，我国大力开拓了多晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池的生产；此外，新型电光源、光电半导体器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纤通讯器件也获得迅猛发展，在上述高新产品的生产中，都需要大量高纯气体，以制造出性能可靠的各种器件。
用途一：大规模集成电路
化学气相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化学刻蚀：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化学掺杂：BF3，B2H6，PH3，AsH3
用途二：液晶屏
化学气相沉淀：SiH4，SiNx
化学刻蚀：SF6，HCl，Cl2
用途三：太阳能电池
化学气相沉淀：SiH4，NH3，NF3
扩散、刻蚀：POCl3，O2，CF4
用途四：光电半导体
化学气相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化学刻蚀：BCl3，Cl2
用途五：光导纤维
化学气相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化学刻蚀：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6
用途一：大规模集成电路
化学气相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化学刻蚀：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化学掺杂：BF3，B2H6，PH3，AsH3
用途二：液晶屏
化学气相沉淀：SiH4，SiNx
化学刻蚀：SF6，HCl，Cl2
用途三：太阳能电池
化学气相沉淀：SiH4，NH3，NF3
扩散、刻蚀：POCl3，O2，CF4
用途四：光电半导体
化学气相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化学刻蚀：BCl3，Cl2
用途五：光导纤维
化学气相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化学刻蚀：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6
上一篇：关于医疗用气体安全管理
下一篇：学习气体安全参数
