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    详解电子气体的主要用途

    2018-5-2 15:10:47

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    随着我国高新技术的快速发展,计算机工业对大规模集成电路、液晶显示器的需求大量增加;随着新型能源的发展,我国大力开拓了多晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池的生产;此外,新型电光源、光电半导体器件(GaAs、InP、AlGaAs)、光纤通讯器件也获得迅猛发展,在上述高新产品的生产中,都需要大量高纯气体,以制造出性能可靠的各种器件。
     
    用途一:大规模集成电路
      化学气相沉淀:SiH4,NH3,O2,N2O,TEOS(四乙氧基硅)
      化学刻蚀:CF4,SF6,NF3,Cl2,CCl,BCl3,KrF,ArF,HBr,HCl
      化学掺杂:BF3,B2H6,PH3,AsH3
     
    用途二:液晶屏
      化学气相沉淀:SiH4,SiNx
      化学刻蚀:SF6,HCl,Cl2
     
    用途三:太阳能电池
      化学气相沉淀:SiH4,NH3,NF3
      扩散、刻蚀:POCl3,O2,CF4
     
    用途四:光电半导体
      化学气相沉淀:AsH3,PH3,NH3,N2,H2
      化学刻蚀:BCl3,Cl2
     
    用途五:光导纤维
      化学气相沉淀:SiH4,SiCl4,D2,GeCl4
      化学刻蚀:CF4,KrF,ArF,Cl2,SF6
     
     
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