硫化氢（H2S）,又名氢硫酸通常情况下是一种无色有臭鸡蛋味的剧毒性易燃气体。对人黏膜有着强烈的刺激性，损害呼吸系统、中枢神经系统，还有损害心脏等器官。硫化氢存在于多种生产过程中，例如采矿、有色金属的冶炼、石油开采、橡胶、制革等工业中。而..查看详情

1.1四氟化碳的合成由于氟碳直接合成四氟化碳的反应剧烈，并存在爆炸的危险，因此如何抑制爆炸，使反应稳定且快速完成是合成过程的关键。日本专利[4-5]采用了不同的卤素氟化物做抑爆剂，如BrF3、IF5。然而BrF3、IF5也同样具有很强的..查看详情

电子行业气体，包含含氟蚀刻气体主要用于干法蚀刻，干法蚀刻有效克服了湿法蚀刻的致命缺陷，已成为亚微米尺寸下蚀刻器件的最主要方法，广泛应用于半导体或LCD前段制程。含氟蚀刻剂品种主要包括四氟化碳、三氟甲烷、二氟乙烷、八氟环丁烷、C4F6、C..查看详情

春季的气温高低起伏，气压变化较大，空气也是比较干燥，这个时候人身体内的血液黏稠度会增高，血液流动变得缓慢，加上血管的收缩时间相对变长，这个时候人身体内的血液黏稠度会增高，血液流动速度减慢，加上血管的收缩时间变长，是心血管疾病高发的季节。..查看详情

半导体清洗工艺主要是去除硅片上的粒子和金属污染物、有机物、在蚀刻、布线工序中抗蚀剂去胶、去除化合物，以及CMP（化学机械抛光）后的清洗。半导体IC制程主要以离子注入、扩散、外延生长及光刻四项基础工艺为基础逐渐发展起来。由于集成电路内各元..查看详情

空气是最常见的一种天然气体混合物,可用于制作零级空气和其它标准混合气体(常用气体混合物和标准校正气).干燥空气主要由氮气、氧、氩、二氧化碳、氖、氦、氪、氢、氙和其它痕量杂质组成。采用不同方法，脱除干燥空气中的二氧化碳和其它痕量杂质后，就..查看详情

低温绝热气瓶（杜瓦罐）由气体发生站向杜瓦罐充装液态气体运送至向各用气现场的供气方式。每个杜瓦罐约130kg，能装约140Nm3气体，适合于日用量100kg～500kg的客户，使用压力不超过2Mpa。工业钢瓶由气体发生站向高压钢瓶充装高压..查看详情

工业上，把常温常压下呈气态的产品统称为工业气体产品。　气体产品种类繁多，大致可以分为一般工业气体和特种气体两大类。一般工业气体产销量大，但对纯度要求不高。特种气体产销量虽小，但根据不同的用途，对不同特种气体的纯度或组成、有害杂质允许的最..查看详情

要保证标准气体的稳定性，必须考虑气瓶材质对所配气体的影响，不能对气体产生吸附、氧化等,在有效期限内量值必须稳定可靠,标准气的有效期一般为一年。大多数常量标准气体可采用钢质气瓶充装，但微量CO、CO2、NO、SO2等微量标准气体要使用铝合..查看详情

日本把微电子生产中所采用的气体，按其不同的品位，具体分为下列几个不同的档次。超高纯气体气体中杂质总含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。高纯气体气体中杂质总含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3ppm以内.洁净气体..查看详情