电子特种气体-三氟化氮行业调研报告

报告摘要： 　　电子特种气体是光电子、微电子等领域，特别是超大规模集成电路、液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少的基础性支撑源材料。它的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，并从根本上制约着电路和器件的精确性和准确性。 　　高纯三氟化氮（NF3），在集成电路、大型屏幕液晶显示屏（TFT-LCD）的生产中，作为清洗剂之用。由于它作为刻蚀剂和清洗剂具有快速、高效等优点，目前无论在世界上，还是我国国内，都有着很大的发展空间。 　　2004年世界NF3的生产能力达到了3640吨左右。具有年产百吨生产能力的生产厂家已有9家。目前我国在NF3气体的年生产能力为300吨左右。而实际生产量在2004年约有30吨。我国在NF3气体的应用市场上，2004年需求约为200吨，并且在今后几年中，其需求量是以50%的年增长率在快速增加。预计在2006年我国市场需求量将达到400吨左右，到2009年达到1000吨左右的需求。为此看出，我国在半导体和TFT液晶方面用高纯NF3气体的市场缺口甚大。 　　本报告从NF3的特性；主要生产工艺技术；主要应用领域；世界市场现状与发展；世界生产现状与发展；国内市场现状与发展；国内生产及研发现状；国内在NF3气体方面的知识产权情况；NF3生产的经济效益与投资风险分析等九个方面进行的调研，并且进行了深入分析。本报告所引入的相关数据，均进行了多方面的核实，具有准确性、权威性。本报告是提供给筹建NF3厂家、了解此市场的经营者、关注此产业发展的机构等的一份必要参考资料。