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    常见工业气体及高纯气体的用途汇总

    2019-6-6 15:32:33

    0
    序号
    气体名称
    纯度/%
    主要用途
    1
    纯氩Ar
    ≥99.99
    冶炼、切割、焊接、电子工业
    2
    ≥99.999
    电子管、特种灯泡、真空技术
    3
    纯氮N2
    ≥99.99
    化工、冶金、电子工业
    4
    ≥99.999
    科研、电子、机械行业、色谱仪、载气
    5
    ≥99.99
    金属冶炼、焊接、国防工业
    6
    ≥99.999
    电子工业、石油化工、色谱仪、载气
    7
    ≥99.99
    电子工业、潜水呼吸
    8
    ≥99.999
    色谱仪载气、电子工业等
    9
    ≥99
    钢材焊接、火焰加工
    10
    ≥99.95
    标准气体的制备、集成电路、科学研究
    11
    工业氢H2
    ≥99
    石油、油脂加氢、人造宝石、石英玻璃制造、金属切割
    12
    纯氙Xe
    ≥99.99
    电光源工业、医疗、电真空、激光行业
    13
    高纯氙Xe
    ≥99.999
    14
    纯氪Kr
    ≥99.99
    电光源工业、电真空工业
    15
    高纯氪Kr
    ≥99.999
    16
    纯氖Ne
    ≥99.99
    电光源工业
    17
    ≥99.9
    化工、焊接、制冷、化纤、农业、食品添加剂
    18
    ≥99.999
    标准气体的制备
    19
    ≥99.9
    医药、科研、制革、排放源监测
    20
    ≥99.9
    标准气制备、等离子干刻
    21
    一氧化碳CO
    ≥99.9
    金属冶炼、渗碳、标准气及混合气制备
    22
    ≥99.9
    低温液体洗涤剂标准气及混合气制备
    23
    ≥99
    金属焊接、切割、加热燃料、有机产品原料
    24
    ≥99.9
    石油化工、医学检验、标准气体的制备
    25
    乙烯C2H4
    ≥99.9
    乙烯、丙烯成分分析标准气体的制备
    26
    丙烯C3H6
    ≥99.9
    化工合成、焊接、燃烧等
    27
    乙硼烷B2H6
    ≥99.995
    半导体器件制造中的重要P型掺杂源
    28
    磷烷PH3
    ≥99.999
    半导体器件制造中的重要N型掺杂源
    29
    砷烷AsH3
    ≥99.999
    N型掺杂剂
    30
    硅烷SiH4
    ≥99.999
    用于制备高纯多晶硅
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