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    电子气体在高新技术中的应用

    2012-2-14 15:23:42

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        进入20世纪90年代以后,随着我国高新技术的快速发展,计算机工业对大规模集成电路、液晶显示器的需求大量增加;随着新型能源的发展,我国大力开拓了多晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池的生产;此外,新型电光源、光电半导体器件(GaAs、InP、AlGaAs)、光纤通讯器件也获得迅猛发展,在上述高新产品的生产中,都需要大量高纯气体,以制造出性能可靠的各种器件。
     
    大规模集成电路
    化学气相沉淀:SiH4NH3,O2N2O,TEOS(四乙氧基硅)
    化学刻蚀:CF4SF6,NF3Cl2,CCl,BCl3KrF,ArF,HBr,HCl
    化学掺杂:BF3B2H6PH3AsH3
     
    液晶屏
    化学气相沉淀:SiH4,SiNx
    化学刻蚀:SF6HCl,Cl2
     
    太阳能电池
    化学气相沉淀:SiH4PH3NF3
    扩散、刻蚀:POCl3,O2CF4
     
    光电半导体
    化学气相沉淀:AsH3,PH3NH3,N2H2
    化学刻蚀:BCl3Cl2
     
    光导纤维
    化学气相沉淀:SiH4,SiCl4D2,GeCl4
    化学刻蚀:CF4,KrF,ArF,Cl2SF6

     
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