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电子工业用气体国家标准 高纯氯Cl2
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0.00 K
更新时间:
2008-08-19
电子工业用气体国家标准高纯氯Cl2
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电子工业用气体国家标准 高纯氨NH3
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更新时间:
2008-08-19
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电子工业用气体国家标准 氮气N2
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更新时间:
2008-08-19
电子工业用气体国家标准氮气N2
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电子工业用气体国家标准 三氯化硼
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0.00 K
更新时间:
2008-08-19
电子工业用气体国家标准--三氯化硼BCl3
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电子气体产业动态
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更新时间:
2008-08-01
2006年是“十一五”计划的开局年,也是中国集成电路产业继续快速前行的发展年。2006年苏州市新成立的集成电路企业及配套企业近20家,其中包括三星电子(苏州)半导体第二工厂、晶方半导体科技(苏州)有限公司、苏州震坤科技有...
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电子工厂特种气体系统设计规范
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0.00 K
更新时间:
2008-08-01
本规范的编写将适用于集成电路/太阳能芯片生产厂、新型显示器件厂(TFT/PDP厂,如上海华虹-NEC、德芯电子(昆山)有限公司)高纯化学品配送系统管道的设计、施工及验收。主要技术内容包括:高纯化学品(含研磨液)配送系统设...
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微电子工业特殊气体贮存及使用守则
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更新时间:
2008-08-01
本守则旨在就微电子工业贮存和使用特殊气体而申领危险品牌照的事宜提供指引。本守则列明关于贮存所的坐落地点、设计和建造的规定(例如机械通风系统、气体侦测系统、灭火系统、电力装置等),以及发牌当局所订明须遵守的相关条文。此外,...
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超临界二氧化碳(CO2)清洗铀样品技术研究
文件大小:
0.00 K
更新时间:
2008-08-01
针对铀样品在机械加工过程中残留的几种常见冷却液成分:水、机油和三乙醇胺,开展了超临界二氧化碳对铀样品的清洗实验,探讨了超临界二氧化碳对铀样品表面常见机械加工残留物的清洗效果,同时对经超临界二氧化碳浸泡的铀样品表面化学成分...
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真空技术与设备3
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0.00 K
更新时间:
2008-07-29
真空技术是使气体压强低于地面大气压强的技术。真空是指压力远小于101.325千帕(kPa)(即1大气压)的稀薄气体空间。在真空技术中除国际单位制的压力单位Pa外,常以托(Torr)作为真空度的单位。1托等于1毫米高的汞柱...
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真空技术与设备2
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0.00 K
更新时间:
2008-07-29
真空技术是使气体压强低于地面大气压强的技术。真空是指压力远小于101.325千帕(kPa)(即1大气压)的稀薄气体空间。在真空技术中除国际单位制的压力单位Pa外,常以托(Torr)作为真空度的单位。1托等于1毫米高的汞柱...
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